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【クーポン発行中】【Vリペア ヘアケア6点セット】アンレーベル ラボ V

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髪のダメージに集中アプローチ ビタミンC誘導体


商品価格:9020円
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店舗名:公式JPSLAB楽天市場店
ジャンルID:567538
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[商品名称]

【クーポン発行中】【Vリペア ヘアケア6点セット】アンレーベル ラボ V リペア シャンプー・トリートメント 400mL + シャントリ (詰替え) 310mL + ヘアオイル 100mL + ヘアミルク 120mL unlabel ビタミンC誘導体 ヘアケア ダメージ髪 ツヤ なめらか 集中補修



[キャッチコピー]
髪のダメージに集中アプローチ ビタミンC誘導体

[商品説明]
商品説明: ●シャンプー・トリートメント スキンケアで培われたアンレーベルの超高圧※1浸透テクノロジーをヘアケアにも応用。超高圧処理し、浸透力を高めた有用成分が髪の芯まで深く、素早く浸透し、髪のダメージに集中アプローチ。 超高圧※1浸透型ビタミンC誘導体配合※2の濃密泡&補修でダメージ髪を根本的に修復。洗うたびにキューティクルを引き締め※3、ツヤのある、なめらかな髪に導く集中美容液シャンプー&トリートメント。爽やかな甘さの中に透明感が広がるフローラルカシスの香り。 ※1超高圧加工処理装置を用いた原料 ※2超高圧処理したテトラヘキシルデカン酸アスコルビル(保湿・補修)を配合 ※3髪にうるおいを与えることによる ●ヘアオイル スキンケアで培われたアンレーベルの超高圧※1浸透テクノロジーをヘアケアにも応用。超高圧処理し、浸透力を高めた有用成分が髪の芯まで深く、素早く浸透し、髪のダメージに集中アプローチ。 なじませるたびにキューティクルが整う超高圧※1浸透型リペアビタミンC誘導体配合※2ヘアオイル。ダメージ補修しながら、日中に受ける紫外線ダメージや乾燥から髪を守り乾かない髪質へ導く集中美容液ヘアオイル。爽やかな甘さの中に透明感が広がるフローラルカシスの香り。 ※1超高圧加工処理装置を用いた原料※2超高圧処理したテトラヘキシルデカン酸アスコルビル(保湿・補修)を配合  ●ヘアミルク スキンケアで培われた超高圧※浸透テクノロジーで髪の内側に素早く浸透し 枝毛、切れ毛、カラーダメージにアプローチ。 超高圧※浸透型リペアビタミンC誘導体*配合の集中美容液へアミルク。 べたつかず、毛先までさらっとまとまるツヤ髪へ整えます。 爽やかな甘さの中に透明感が広がるフローラルカシスの香り。 ※超高圧加工処理装置を用いた原料 *超高圧処理したテトラヘキシルデカン酸アスコルビル(保湿・補修成分) 【シャンプーご使用方法】 髪と頭皮を十分に濡らした後、適量を手にとって軽く泡立て、頭皮を指の腹でマッサージするようにやさしく洗浄してください。 その後、しっかりすすいでください。 【トリートメントご使用方法】 シャンプー後、軽く水気を切り、適量を毛先を中心になじませます。 その後、しっかりすすいでください。続けてヘアマスクを お使いになる場合は、すすがずに使用することができます。 【ヘアオイルご使用方法】 適量を手のひら全体に良く伸ばして、タオルドライした髪または乾いた髪になじませてください。 【ヘアミルクご使用方法】 タオルドライ後、適量を手のひらでよくのばし、毛先を中心に塗布し、髪全体によくなじませます。その後ドライヤーで乾かしてください。 〜スタイリングとして使う場合〜 スタイリング後の髪の中間~毛先に軽くつけることで、さらっとなめらかな指通りに加え、紫外線などの外的要因から髪を保護します。 関連ワード: unlabel、UNLABEL、アンレーベル、JPSLabo、ジェイピーエスラボ、コスメカンパニー株式会社、スキンケア、基礎化粧品、洗顔、メイク、オーガニック、弱酸性、敏感肌用、高保湿、大容量、コスパ、美容液 商品名 アンレーベル ラボ V リペア シャンプー・トリートメント + V リペア シャンプー・トリートメント(詰替え) + ヘアオイル + ヘアミルク 6点セット 商品区分 化粧品 容量 シャンプー400mL/トリートメント400mL/シャンプー(詰替え) 310mL/トリートメント(詰替え) 310mL/ヘアオイル100mL/ヘアミルク120mL 成分 【シャンプー全成分】水、ココイルメチルタウリンタウリンNa 、ココイルメチルタウリンNa 、ヒドロキシアルキル(C12−14)ヒドロキシエチルサルコシン、コカミドメチルMEA 、デシルグルコシド、テトラヘキシルデカン酸アスコルビル、マレイン酸、セラミドEOP、セラミドNG、セラミドNP、セラミドAG、セラミドAP 、イソステアロイル加水分解シルク、イソステアロイル加水分解コラーゲン、イソステアロイル加水分解ケラチン(羊毛) 、フラーレン、ジラウロイルグルタミン酸リシンNa 、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビスエトキシジグリコール、ココイル加水分解ケラチン、ココイル加水分解コラーゲンK 、ラウロイルメチルアラニンNa 、ラウラミドプロピルベタイン、スクワラン、グリチルリチン酸2K 、アラントイン、ポリクオタニウム−47 、ポリクオタニウム−10 、クオタニウム−18 、クオタニウム−33 、イソステアリン酸、イソノナン酸イソノニル、グリセリン、コレステロール、エチドロン酸4Na 、クエン酸、PG 、安息香酸Na 、フェノキシエタノール、香料 【トリートメント全成分】水、ステアリルアルコール、ジメチコン、ベヘニルアルコール、サフラワー油、ベヘントリモニウムクロリド、ミリスチン酸イソプロピル、テトラヘキシルデカン酸アスコルビル、マレイン酸、セラミドEOP、セラミドNG、セラミドNP、セラミドAG、セラミドAP 、イソステアロイル加水分解シルク、イソステアロイル加水分解コラーゲン、イソステアロイル加水分解ケラチン(羊毛) 、フラーレン、ジラウロイルグルタミン酸リシンNa 、シロキクラゲ多糖体、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビスエトキシジグリコール、スクワラン、イソステアリン酸、ポリクオタニウム−47 、ポリクオタニウム−10 、クオタニウム−33 、ジステアリルジモニウムクロリド、ステアラミドプロピルジメチルアミン、セトリモニウムクロリド、コレステロール、イソノナン酸イソノニル、ステアルトリモニウムクロリド、乳酸、PG 、エタノール、安息香酸Na 、フェノキシエタノール、香料 【ヘアオイル全成分】 シクロペンタシロキサン、ジメチコン、トリ(カプリル酸/カプリン酸)グリセリル、テトラヘキシルデカン酸アスコルビル、マレイン酸、セラミドEOP、セラミドNG、セラミドNP、セラミドAG、セラミドAP 、イソステアロイル加水分解シルク、イソステアロイル加水分解コラーゲン、イソステアロイル加水分解ケラチン(羊毛) 、フラーレン、ジラウロイルグルタミン酸リシンNa 、γ−ドコサラクトン、メドウフォーム−δ−ラクトン、ホホバ種子油、リンゴ酸ジイソステアリル、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビスエトキシジグリコール、セバシン酸ジエチル、トコフェロール、スクワラン、トリイソステアリン酸ポリグリセリル−2 、クオタニウム−33 、クオタニウム−18 、イソステアリン酸、イソノナン酸イソノニル、コレステロール、PG 、水、香料 【ヘアミルク全成分】 水、ジメチコン、グリセリン、トリエチルヘキサノイン、水添ナタネ油アルコール、テトラヘキシルデカン酸アスコルビル、マレイン酸、イソステアロイル加水分解ケラチン(羊毛)、イソステアロイル加水分解コラーゲン、イソステアロイル加水分解シルク、メドウフォーム-δ-ラクトン、γ-ドコサラクトン、シクロヘキサン-1, 4-ジカルボン酸ビスエトキシジグリコール、セラミドEOP、セラミドNG、セラミドNP、セラミドAG、セラミドAP、ヘマチン、アミノホスホノ酪酸アルギニン、イソステアリン酸、コレステロール、ジフェニルシロキシフェニルトリメチコン、グアーヒドロキシプロピルトリモニウムクロリド、ジステアリルジモニウムクロリド、(ジメチコン/ビニルジメチコン)クロスポリマー、クオタニウム-33、ステアロキシプロピルトリモニウムクロリド、ステアリルアルコール、セタノール、トコフェロール、アルギニン、クエン酸、セバシン酸ジエチル、イソノナン酸イソノニル、BG、PG、イソプロパノール、エタノール、フェノキシエタノール、香料 生産 日本 メーカー名JPSLAB株式会社 広告文責コスメカンパニー株式会社 使用上の注意文: ●お肌に異常が生じていないかよく注意して使用してください。お肌に合わない時即ち次のような場合には、使用を中止してください。そのまま使用を続けますと、症状を悪化させることがありますので、皮フ科専門医等にご相談されることをおすすめします。 (1)使用中、赤味、はれ、かゆみ、刺激、色抜け(白斑等)や黒ずみ等の異常があらわれた場合 (2)使用したお肌に、直接日光があたって前記のような異常があらわれた場合 ●傷やはれもの、湿しん等異常のある部位には使用しないでください。 ●目に入らないように注意し、入ったときはすぐに洗い流してください。 ●極端に高温又は低温、直射日光のあたる場所、乳幼児の手の届く場所には保管しないでください。CONCEPT 新・集中美容液シャンプーで 現代人の髪悩みに集中アプローチ! 現代人の過酷な環境から肌を守り続けてきた「アンレーベルラボ」から、 超高圧*1浸透テクノロジーをヘアケアに応用した 集中美容液シャンプーが誕生。 超高圧*1浸透テクノロジーにより開発された 独自の補修成分で現代人の髪を守りながら うるおいに満ちた本質的な美髪に導きます。 01 DAMAGE 02 MOIST

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